Use este identificador para citar ou linkar para este item:
https://repositorio.ufpe.br/handle/123456789/61316
Compartilhe esta página
Título: | Gel á base de ximenia americana para os tratamentos antimicrobiano e cicatrizante |
Autor(es): | SILVA, Rosali Maria Ferreira da ROLIM NETO, Pedro José LIMA, Luciana Neiva Antunes SILVA, Keyla Emanuelle Ramos da ROLIM, Larissa Araújo COSTA, Salvana Priscylla Manso PEREIRA, Gustavo Campos RANDAU, Karina Perrelli SOARES, Luiz Alberto Lira FIGUEIREDO, Camila Bezerra Melo |
Data do documento: | 12-Jun-2018 |
Editor: | Instituto Nacional da Propriedade Industrial (INPI) |
Abstract: | Gel à base de ximenia americana para os tratamentos antimicrobiano e cicatrizante. a presente patente refere-se à forma farmacêutica gel à base do extrato etanólico de ximenia americana l. para os tratamentos antimicrobiano e cicatrizante. Para a formulação, foram utilizadas cascas do caule de x. americana cujas atividades antimicrobiana e cicatrizante estão descritas na literatura. Para a obtenção do extrato, foi desenvolvida uma metodologia padronizada, de extração à quente com agitação utilizando solvente extrator álcool à 70%, a qual se mostrou reprodutível. A formulação do gel foi composta pelo extrato padronizado, co-polímero do ácido sulfônico acriloildimetilaurato + vinilpirrolidona neutralizado (aristoflex<32>), metilprabeno, propilparabeno, imidazolidinilureia e água purificada, tendo seu ganho tecnológico na escolha do agente gelificante e na concentração utilizada, tornando-se assim possível a obtenção de um gel estável. Os resultados dos testes de controle de qualidade apresentaram-se de acordo com o preconizado pelas normas vigentes. |
URI: | https://busca.inpi.gov.br/pePI/ https://repositorio.ufpe.br/handle/123456789/61316 |
Aparece nas coleções: | Patentes |
Arquivos associados a este item:
Arquivo | Descrição | Tamanho | Formato | |
---|---|---|---|---|
BR 102013004313.pdf | 1,56 MB | Adobe PDF | ![]() Visualizar/Abrir |
Este arquivo é protegido por direitos autorais |
Os itens no repositório estão protegidos por copyright, com todos os direitos reservados, salvo quando é indicado o contrário.